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簡要描述:SuperView W1系列0.1nm分辨率白光干涉儀,以“超精密、全適配、高效率、低運維"的核心優(yōu)勢,應用覆蓋半導體、3C電子等多行業(yè)場景,數(shù)據(jù)驅(qū)動檢測,賦能精密制造升級。如需獲取產(chǎn)品演示視頻、行業(yè)案例手冊或免費樣品測試。
詳細介紹
| 品牌 | 中圖儀器 | 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 加工定制 | 否 |
在半導體、光學加工、3C電子等超精密制造領域,“測量分辨率不足導致數(shù)據(jù)失真"“微觀形貌無法精準捕捉"“環(huán)境干擾影響檢測穩(wěn)定性"等痛點,直接制約產(chǎn)品良率與工藝升級。中圖儀器0.1nm分辨率白光干涉儀(SuperView W1系列),以0.1nm核心分辨率為突破,結合白光干涉技術與智能化功能,為B端用戶提供“高精度、全適配、高效率"的表面形貌測量解決方案。

1.超精密數(shù)據(jù),奠定工藝優(yōu)化基石
0.1nm分辨率搭配0.1nm形貌重復性(STR)、0.005nm粗糙度RMS重復性,連續(xù)10次測量Sa=0.2nm硅晶片,數(shù)據(jù)偏差<0.001nm,符合ISO 25178、ISO 10610等300余種國內(nèi)外標準。無論是納米級臺階高度、微觀幾何輪廓,還是超光滑表面粗糙度,均能精準量化,為工藝調(diào)整提供可信的量化依據(jù),某半導體企業(yè)應用后,因測量誤差導致的返工率降低18%。
2.高速掃描,效率精度雙在線
突破“高分辨率必低速度"的行業(yè)瓶頸,W1-Ultra型號在0.1nm分辨率下,掃描速度高達8μm/s,是傳統(tǒng)同類設備的4倍以上;支持單/多區(qū)域一鍵測量、陣列式批量檢測,搭配編程預設流程,實現(xiàn)“無人值守"自動化操作。某3C電子代工廠檢測手機玻璃屏微觀形貌時,日均檢測量從200片提升至550片,檢測效率提升175%。
3.全場景適配+抗干擾,復雜環(huán)境穩(wěn)輸出
單掃描模式全覆蓋超光滑到粗糙、鏡面到全透明/黑色材質(zhì),無需更換模塊或耗材;配備氣浮式隔振底座與0.1nm分辨率環(huán)境噪聲評價功能,可定量檢測外界干擾并有效隔離,即便在車間振動環(huán)境中,仍能保持數(shù)據(jù)穩(wěn)定。某光學加工企業(yè)反饋,設備在車間常態(tài)環(huán)境下運行,測量數(shù)據(jù)波動<0.002nm,滿足元件生產(chǎn)要求。
4.智能化操作+安全防護,降低運維成本
集成式操縱桿可控制所有位置軸、速度及光源亮度,新手培訓1天即可獨立操作;雙重鏡頭防撞保護(軟件ZSTOP+彈簧回縮結構)+光源無人值守自動熄燈設計,設備年損耗率降至2%以下,光源使用壽命延長3年,維護成本較傳統(tǒng)設備降低60%。

1.半導體制造及封裝:精準測量硅晶片研磨減薄后的表面粗糙度、光刻槽道微觀輪廓,助力頭部企業(yè)工藝良率提升8%,檢測數(shù)據(jù)通過國際標準認證,可直接對接供應鏈質(zhì)檢要求。
2.3C電子:適配玻璃屏粗糙度、金屬殼模具瑕疵、油墨屏高度差測量,0.1nm分辨率可捕捉微米級劃痕與凹陷,批量檢測無需重復調(diào)試,滿足規(guī)?;a(chǎn)質(zhì)檢需求。
3.光學加工:量化光學元件表面粗糙度、納米臺階高度,數(shù)據(jù)精高,幫助企業(yè)突破光學產(chǎn)品技術瓶頸,成功打入海外市場。
4.汽車零部件與MEMS器件:檢測精密齒輪磨損情況、MEMS器件孔隙間隙,在復雜車間環(huán)境中保持數(shù)據(jù)穩(wěn)定,某車企借此將零部件質(zhì)檢合格率提升12%。
可根據(jù)行業(yè)需求定制測量模板、分析參數(shù),提供免費樣品測試與行業(yè)專屬解決方案設計。

SuperView W1系列0.1nm分辨率白光干涉儀,以“超精密、全適配、高效率、低運維"的核心優(yōu)勢,應用覆蓋半導體、3C電子等多行業(yè)場景,數(shù)據(jù)驅(qū)動檢測,賦能精密制造升級。如需獲取產(chǎn)品演示視頻、行業(yè)案例手冊或免費樣品測試。
注:產(chǎn)品參數(shù)與配置以實際交付為準,中圖儀器保留根據(jù)技術升級調(diào)整相關內(nèi)容的權利,恕不另行通知。
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